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Scrubber尾氣處理系統

2019-12-10 12:01:59 0

Local Scrubber廢氣處理特性

半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,可分為:
1.易燃性氣體如SiH4、H2等
2.毒性氣體如AsH3、PH3等
3.腐蝕性氣體如HF、HCl等
4.溫室效應氣體如CF4、NF3等

亚慱体育app由于以上四種氣體對環境或人體皆具有一定的危害性,必須防止其直接排放大氣中,所以,一般半導體廠都以加裝大型中央廢氣處理系統.但此系統僅以水洗滌廢氣.故其應用范圍僅限于處理水溶性氣體,無法因應日新月異且分工細微的半導體工藝廢氣.因此必須依據各工藝所衍生出的氣體特性種類,選擇搭配相對應的廢氣處理設備,才能有效解決廢氣問題.而由于工作區域多半離中央廢氣處理系統前,常因氣體特性導致管路中結晶或粉塵堆積,造成管路堵塞后導致氣體泄漏,嚴重者甚至引起爆炸,無法確保現場工作人員之工作安全.因此在工作區域需配置適合工藝氣體特性的小型廢氣處理設備(Local Scrubber),以減少在工作區域滯留的廢氣,確保人員安全。






半導體工藝廢氣處理方式
依據廢氣處理的特性,在處理可分為四種處理方式:
1、水洗式(處理腐蝕性氣體)
2、氧化式(處理燃燒性,毒性氣體
3、吸附式(干式)(依照吸附材種類處理對應之廢氣)
4、等離子燃燒式(各類型廢氣皆可處理)

Scrubber尾氣處理裝置可處理氣體種類包括半導體、液晶以及太陽能等行業中蝕刻制程與化學氣相沉積制程中使用的特氣,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。



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