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半導體廢氣處理Local Scrubber的特性

2020-03-27 09:46:40        0

半導體廢氣處理Local Scrubber的特性

半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,

可分為:

1易燃性氣體如SiH4 H2等

2毒性氣體如AsH3,PH3等

3腐蝕性氣體如HF,HCl等

4溫室效應氣體如CF4,NF3等

由于以上四種氣體對環境或人體皆具有一定的危害性,必須防止其直接排放大氣中,所以,一般半導體廠都以加裝大型中央廢氣處理系統.但此系統僅以水洗滌廢氣.故其應用范圍僅限

于處理水溶性氣體,無法因應日新月異且分工細微的半導體工藝廢氣.因此必須依據各工藝所衍生出的氣體特性種類,選擇搭配相對應的廢氣處理設備,才能有效解決廢氣問題.而由于工作區域多半離中央廢氣處理系統前,常因氣體特性導致管路中結晶或粉塵堆積,造成管路堵塞后導致氣體泄漏,嚴重者甚至引起爆炸,無法確保現場工作人員之工作安全.因此在工作區域需配置適合工藝氣體特性的小型廢氣處理設備(Local Scrubber),以減少在工作區域滯留的廢氣,確保人員安全。

深圳亚慱体育app有限公司是一家從事氣體應用系統工程的高新技術企業,專業為客戶提供大宗氣體系統、電子特氣系統、實驗室氣路系統、工業集中供氣系統、高純化學品供液系統、Local Scrubber尾氣處理系統等全套工程技術服務和配套產品的一站系統解決方案,公司于2018年榮獲“國家高新技術企業”認定。